北京林偉欣盛科技有限公司
Beijing Chuangshiweina Technology Co., LTD.
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選擇創世威納的4大優勢
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01 多年專注 經驗豐富
從事(shì)微細加工設備、半導體工藝設備研發與銷售的高新技術企業。
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02 緊跟世界 技術
采用國際上的“設備與工藝相(xiàng)結合”模式進行研發、生産與銷售。
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03 領域廣泛 設施齊全
産品定位于高新技術發展的基礎産業，可提供全套設備和單一設備。
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04 穩定性強 安全可靠
良好的售前服務平台、完善的售後服務體系、廣泛的技術支持能力。
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PVD技術常用的方法
2019-04-29
PVD基本方法：真空蒸發、濺射 、離(lí)子鍍（空心陰離(lí)子鍍、熱陰離(lí)子鍍、電弧離(lí)子鍍、活性反應離(lí)子鍍、射頻(pín)離(lí)子鍍、直流放(fàng)電離(lí)子鍍），以下(xià)介紹幾種常用的方法。
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常用真空術語
2019-04-29
常用真空術語：1.标準環境條件 standard ambient condition： 溫度爲20℃，相(xiàng)對濕度爲65%，大氣壓力爲101325Pa=1013.25mbar=760Torr。
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濺射沉積技術
2019-04-29
濺射鍍膜是(shì)指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉澱在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重複性好等優點，而且物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅速，應用廣泛。
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氣體的放(fàng)電
2019-04-29
在PVD實際中，你是(shì)否遇到過開(kāi)靶點不起來，需要充入更多的工作氣體或多關閉高閥才能正常點靶，是(shì)否遇到在輝光清洗時，産品“打火(huǒ)”，燒蝕壞産品的情況。其實這些都與氣體的放(fàng)電有關，下(xià)面就聊聊與PVD相(xiàng)關的幾種放(fàng)電類型。
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爲什麽PVD塗層可以沉積不同的顔色
2019-04-29
我們看到一個物體，首先感到是(shì)它的顔色。物質的顔色是(shì)由人眼視覺看得到的。如果在沒有光線的密閉的暗室中，或在漆黑的夜裏，物體的顔色是(shì)看不見(jiàn)的。隻有在光照(zhào)下(xià)，物質的顔色才能爲肉眼所見(jiàn)，所以我們說顔色是(shì)光和眼睛相(xiàng)互作用而産生的。事(shì)實上，顔色是(shì)大腦對投射在視網膜上不同性質光線進行辨認的結果。
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5G時代來臨，不鏽鋼中框加PVD方案将成新的趨勢
2019-04-29
随着5G時代的臨近，行業内公司紛紛布局産業鏈相(xiàng)關節點。行業相(xiàng)關人表示，看好金屬中框的産業節點優勢，行業從“金屬外殼+金屬中框”向未來“金屬中框+雙面玻璃”的産業發展過程中，将需要7系鋁、不鏽鋼甚至钛合金等一類加工技術壁壘更高、價值更高的金屬中框，以保持機身的強度和對大屏的支撐，這将顯著提高金屬中框産業價…
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HIPIMS技術簡介
2019-04-29
磁控濺射技術廣泛應用于薄膜制備領域，裝飾鍍膜應用領域和工具鍍膜應用都比較常見(jiàn)，但(dàn)磁控濺射處理技術有很多的局限性，例如磁控濺射靶功率密度受靶熱負荷的限制，即當濺射電流較大時，過多的正離(lí)子對靶進行轟擊可能使濺射靶過熱而燒損，濺射的能量有限金屬離(lí)化率不高等問題。近年來國内外發展起來了一種高功率脈沖磁控濺射…
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iPhone不鏽鋼中框+PVD工藝
2019-04-29
物理氣相(xiàng)沉積 (PVD) 着色工藝。金色和深空灰色外觀的不鏽鋼邊框采用的物理氣相(xiàng)沉積着色工藝，使顔色和反射率與玻璃機身相(xiàng)得益彰。
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PVD在顯示屏行業現狀
2019-04-29
PVD（Physical Vapor Deposition）技術，其實是(shì)制備薄膜材料的主要技術之一。用于制備薄膜材料的物質被稱爲PVD鍍膜材料。經過多年發展，PVD 鍍膜技術被廣泛用于應用于電子、光學、機械、建築、材料等領域。
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類金剛石（DLC）簡介
2019-04-29
類金剛石（英文：Diamond-likeCarbon 縮寫DLC）是(shì)一種非晶碳，這種材料表現出很多與金剛石相(xiàng)類似的性質，DLC常常作爲塗層材料使用。
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平衡磁控濺射和非平衡磁控濺射
2019-04-29
平衡磁控濺射即傳統的磁控濺射，是(shì)在陰靶材背後放(fàng)置芯部與外環磁場強度相(xiàng)等或相(xiàng)近的永磁體或電磁線圈，在靶材表面形成與電場方向垂直的磁場。沉積室充入一定量的工作氣體，通常爲Ar，在高壓作用下(xià)Ar 原了電離(lí)成爲Ar+離(lí)子和電子，産生輝光放(fàng)電，Ar+ 離(lí)子經電場加速轟擊靶材，濺射出靶材原子、離(lí)子和二次電子等。
